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三星开始生产具有GAA架构的3nm芯片

导读 三星宣布已开始生产采用新 GAA 架构的3nm 芯片。减少芯片光刻机的战争仍在如火如荼地进行,今天它朝着这个方向迈出了非常重要的一步。让

三星宣布已开始生产采用新 GAA 架构的3nm 芯片。减少芯片光刻机的战争仍在如火如荼地进行,今天它朝着这个方向迈出了非常重要的一步。让我们看看所有的细节。

三星已经生产 3nm 芯片,芯片效率和性能之战的新里程碑

韩国三星是世界上少数能够以溶剂方式制造芯片的公司之一。与台积电一起,他们在市场上占据主导地位,但在激烈竞争的背景下,他们需要改进制造工艺。始终需要具有更先进光刻机的更好芯片:缩小纳米意味着提高效率并生产性能更好的更密集芯片,但实现起来非常困难。

出于这个原因,好消息是三星已经开始生产其 3nm 芯片,该芯片采用 MBCFET 类型的 GAA(Gate-All-Around)晶体管架构。因此,逐渐被淘汰的 FinFET 的局限性得到了克服。

与5nm工艺相比,采用三星3nm光刻技术制造的芯片,功耗可降低45%,性能提升高达23%,芯片面积减少16%。而这一切都是为了第一代3nm,因为第二代可以做得更好。

我们希望在未来几个月内,第一批采用这种光刻技术制造的芯片产品将开始上市。三星几个月来一直在“安全”生态系统的背景下与其客户合作,他们打算通过该生态系统让Nvidia 等芯片设计师的一切变得更好、更容易。

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